版图工程师

职位描述

工作职责

1.硅基工艺版图设计与优化： 负责根据电路和器件设计要求和硅基工艺规范进行无源器件版图设计，确保版图在空间、功能、性能等方面的最优布局。特别关注光刻工艺的特殊要求，确保设计的光刻层次和分辨率符合制造工艺要求，优化复杂的硅基光刻板设计。

2.DRC与LVS规则检查与优化： 负责版图设计的设计规则检查（DRC），确保设计符合硅基工艺制程的设计规则。针对光刻工艺的特殊要求，更新和优化DRC规则，确保版图的设计与工艺标准一致，避免由于光刻分辨率或工艺限制导致的设计缺陷。

3.Testkey设计与版图验证： 负责Testkey设计，确保版图中每个设计部分能够通过正确的验证和测试，特别是在复杂的光刻板设计中合理安排测试点和观测点。根据电路设计要求，设计适应硅基工艺的Testkey布局，确保测试覆盖率，同时不影响产品的性能和尺寸。支持生产后的测试工作，确保关键功能模块能够顺利通过验证。

4.光刻工艺与版图设计对接： 与制造工艺团队紧密合作，特别是在光刻工艺方面，确保版图设计满足当前硅基工艺的制造要求。优化版图设计以适应复杂的光刻工艺流程，包括调整设计规则和版图布局，确保高良率和高可制造性。特别是在微缩技术和高分辨率光刻技术下，确保设计符合最新的工艺要求。

5.跨部门协作与技术支持： 与仿真设计、工艺工程、测试团队等紧密协作，特别是在光刻板设计方面，确保版图设计满足电气和物理层面的功能与制造要求。提供技术支持，帮助解决与光刻工艺相关的设计问题，优化跨部门的沟通与协作。

6.版本管理与文档编制： 负责版图设计的版本控制与管理，确保所有设计文件的准确性和一致性，特别是针对光刻板的设计文档，记录设计流程、决策依据和技术细节。编写详细的设计文档和报告，便于后期追溯与分析，确保在设计变更时的文档清晰可追溯。

7.版图质量控制与持续改进： 严格控制版图设计质量，特别是在光刻板设计中，确保设计成果符合客户需求和行业标准。持续实施设计流程的改进方案，提升设计质量与效率，减少设计迭代次数，并确保设计可以顺利过渡到制造阶段，降低生产成本。

任职要求

任职资格

1.熟悉半导体工艺基本流程和原理（光刻、刻蚀、镀膜、切割等），能够做到和各工站紧密配合，确保设计出的版图结构符合工艺能力，并且和各工站定期沟通，做到内部design rule的实时更新。

2.具备扎实的电路设计基础，能够根据等效电路图实现每部分器件的有效互联。

3.具备常规的无源器件电学测试基础，能够结合半导体工艺过程设计各种工艺监控的过程test key和电学性能test key。

4.熟悉多层版图设计，能够处理复杂的层次结构、互联方式、布线规则等

5.具备外部Fab design rule的快速解析能力，能够做到根据Fab design rule文件高效地识别工艺窗口，及设计出符合rule的芯片结构

6.熟悉版图设计全流程，并具备DRC检查能力