光刻研发工程师

职位描述

1. 光刻新技术开发，根据新产品对技术需求，评估验证新产品开发过程中光刻工艺的核心点，主导光刻工站技术开发成功；

2. 配合产品开发工程师完成技术及产品开发，在此过程中主导光刻工艺的相关工艺参数、标准文件制定及工艺优化，为项目开发提供保障；

3. 负责现有产品的改进和优化，同时针对生产制造中的异常问题，提出建设性解决方案和精益生产方案，提高产品的性能、质量和竞争力；

4. 组织新材料、新工艺、新设备的开发、验证以及导入，领导提升光刻制程技术及能力厚度；

5. 主导撰写相关的技术文档和报告，包括但不限于研发计划、实验报告、产品说明书、SOP、PFMEA文件等；

6. 对下属人员培训方案的制定和实施，确保工程师、技术员能力的持续提升；

7. 关注行业技术发展趋势，收集和分析市场和技术信息，积极参与技术交流和培训，为研发提供支持和建议；

8. 与其他相关部门密切合作，确保产品的顺利推出和持续改进。

任职要求

1. 对晶圆级半导体行业光刻工艺原理具备资深经验，掌握Stepper、接触式、直写光刻工艺；

2. 对光刻胶特性及选择有丰富的知识储备，包括原理性和信息储备如：光刻胶反应机理、不同光刻胶厂家实力认知等；

3. 具备光刻工艺独自开发成功的案例；

4. 对前后工艺有一定的了解，如晶圆抛光、刻蚀、镀膜；

5. 熟悉项目管理流程、SPC、体系等基础流程工具。

专业：微电子学、半导体工艺、材料学等相关专业

经验要求：5年以上光刻工作经验 ，具备艰苦奋斗精神